Humidity yog ib qho kev tswj hwm ib puag ncig hauv kev ua haujlwm ntawm chav huv. Lub hom phiaj tus nqi ntawm cov av noo nyob rau hauv lub semiconductor huv chav yog tswj kom nyob rau hauv thaj tsam ntawm 30 mus rau 50%, cia qhov yuam kev nyob rau hauv ib tug nqaim ntau yam ntawm ± 1%, xws li ib tug photolithographic cheeb tsam - los yog txawm me me nyob rau hauv lub deb ultraviolet ua (DUV) cheeb tsam. - Hauv lwm qhov chaw, koj tuaj yeem so tsis pub dhau ± 5%.
Vim tias cov av noo txheeb ze muaj ntau yam uas tuaj yeem ua rau kev ua haujlwm tag nrho ntawm chav huv, suav nrog:
● kab mob loj hlob;
● Qhov ntau ntawm kev nplij siab uas cov neeg ua haujlwm xav tau ntawm chav tsev kub;
● Static charge tshwm;
● hlau corrosion;
● Dej vapor condensation;
● degradation ntawm lithography;
● Kev nqus dej.
Cov kab mob thiab lwm yam kab mob lom (pwm, kab mob, fungi, mites) tuaj yeem sib koom ua ke hauv ib puag ncig nrog cov av noo siab tshaj 60%. Qee cov nroj tsuag tuaj yeem loj hlob thaum tus txheeb ze av noo tshaj 30%. Thaum cov av noo nyob nruab nrab ntawm 40% thiab 60%, qhov cuam tshuam ntawm cov kab mob thiab cov kab mob ua pa tuaj yeem txo qis.
Tus txheeb ze humidity nyob rau hauv thaj tsam ntawm 40% mus rau 60% kuj yog ib qho chaw me me uas tib neeg nyiam. Cov av noo ntau dhau tuaj yeem ua rau tib neeg muaj kev nyuaj siab, thaum cov av qis dua 30% tuaj yeem ua rau tib neeg xav tias qhuav, chapped, ua pa tsis zoo thiab tsis xis nyob.
Cov av noo siab tiag tiag txo cov tsub zuj zuj ntawm cov nqi zoo li qub rau saum npoo ntawm chav huv - qhov no yog qhov xav tau. Cov av qis dua yog qhov tsim nyog rau kev sib sau ua ke thiab ua rau muaj kev puas tsuaj ntawm electrostatic paug. Thaum tus txheeb ze av noo tshaj 50%, tus nqi zoo li qub pib sai sai, tab sis thaum tus txheeb ze av noo tsawg dua 30%, lawv tuaj yeem nyob ntev rau ntawm lub insulator lossis qhov chaw tsis muaj av.
Tus txheeb ze av noo ntawm 35% thiab 40% tuaj yeem ua rau muaj kev cuam tshuam zoo, thiab cov chav tsev semiconductor feem ntau siv cov kev tswj hwm ntxiv los txwv qhov sib txuam ntawm cov nqi zoo li qub.
Qhov ceev ntawm ntau cov tshuaj tiv thaiv, nrog rau cov txheej txheem corrosion, yuav nce raws li cov txheeb ze av noo nce. Txhua qhov chaw raug huab cua nyob ib puag ncig ntawm chav huv huv yog ceev ceev nrog tsawg kawg ib lub monolayer dej. Thaum cov chaw no tau tsim los ntawm cov txheej hlau nyias uas tuaj yeem hnov mob nrog dej, cov av noo siab tuaj yeem ua kom cov tshuaj tiv thaiv. Hmoov zoo, qee cov hlau, xws li txhuas, tuaj yeem tsim cov oxide tiv thaiv nrog dej thiab tiv thaiv oxidation ntxiv; tab sis lwm cov ntaub ntawv, xws li tooj liab oxide, tsis muaj kev tiv thaiv, yog li nyob rau hauv high humidity ib puag ncig, tooj liab nto yog ntau raug rau corrosion.
Tsis tas li ntawd, nyob rau hauv ib qho chaw txheeb ze av noo, lub photoresist nthuav dav thiab aggravated tom qab lub voj voog ci vim qhov nqus ntawm noo noo. Photoresist adhesion kuj tuaj yeem cuam tshuam tsis zoo los ntawm cov av noo ntau dua; qis tus txheeb ze av noo (kwv yees li 30%) ua rau photoresist adhesion yooj yim dua, txawm tias tsis tas yuav tsum tau hloov pauv polymeric.
Tswj cov txheeb ze av noo nyob rau hauv ib chav tsev huv si semiconductor tsis yog arbitrary. Txawm li cas los xij, raws li lub sijhawm hloov pauv, nws yog qhov zoo tshaj los tshuaj xyuas cov laj thawj thiab lub hauv paus ntawm kev coj ua, feem ntau lees txais.
Cov av noo yuav tsis pom tshwj xeeb rau peb cov tib neeg kev nplij siab, tab sis feem ntau nws muaj kev cuam tshuam zoo rau cov txheej txheem tsim khoom, tshwj xeeb tshaj yog qhov chaw noo noo siab, thiab cov av noo feem ntau yog qhov kev tswj tsis zoo, uas yog vim li cas nyob rau hauv qhov kub thiab av noo tswj ntawm chav huv, av noo yog nyiam.
Post lub sij hawm: Sep-01-2020